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LCVD修補設(shè)備

通過激光化學沉積的方法對金屬進行薄膜沉積,廣泛應(yīng)用于光掩膜、液晶面板、光電子、微電子、集成電路、半導體器件(光電池/光波導/MOS器件/超導器件)的加工處理。

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